

超薄均勻涂層能力
涂層厚度誤差控制 ±0.5μm,無針孔、流掛,適配晶圓光刻、顯示阻隔膜、PCB 三防漆納米級(jí)成膜需求,解決傳統(tǒng)噴涂厚薄不均、元器件邊緣漏涂痛點(diǎn)。
低沖擊無損霧化
霧滴輕柔、供氣壓力低,對(duì)晶圓、TSV 深孔、微型電極、FPC 柔性板無物理劃傷,適配 7nm 及以下先進(jìn)半導(dǎo)體、精密傳感器等高敏感工件清洗 / 涂覆。
強(qiáng)抗堵直通流道
內(nèi)部無彎折死角,可噴涂含顆粒漿料、高粘度膠液(最高 10000cP),減少產(chǎn)線停機(jī)維護(hù),適配銀漿、陶瓷涂層、底部填充膠工況。
潔凈耐腐蝕材質(zhì)體系
金屬款:SUS316L、哈氏合金,適配常規(guī)藥液;
PK/PCF 全非金屬系列:無金屬析出,適配酸堿蝕刻液、高純光刻藥液,滿足 ISO Class5 無塵車間標(biāo)準(zhǔn),杜絕金屬離子污染芯片電路。
寬流量分段系列全覆蓋
AM 微量精密、BN 中流量量產(chǎn)、CNP 高粘度漿料、PK 非金屬防腐四大系列,覆蓋電子全工序微量→大流量噴涂需求。
AM6(0.1–1L/h):7nm 先進(jìn)制程光刻膠預(yù)涂覆,替代部分旋涂,光刻膠耗材節(jié)省 30%;CMP 后銅互連溫和清洗,去除拋光殘?jiān)?,減少晶圓表面缺陷 50%;TSV 硅通孔深孔清洗,超細(xì)霧滴滲透高深寬比孔洞,清除內(nèi)部顆粒雜質(zhì)。
AM12/AM25:芯片微型電極、探針臺(tái)微量清洗,專用清洗液精準(zhǔn)噴淋,不腐蝕金屬電極。
2)顯示面板行業(yè)(OLED/miniLED/ 手機(jī)鏡頭)
OLED 水氧阻隔層(Barix)噴涂,無針孔薄膜,面板良率提升至 99.3%;
手機(jī)攝像頭模組防眩光涂層、光學(xué)鏡片 AR 增透膜,5μm 霧滴均勻鍍膜,無反光瑕疵;
柔性屏 PI 膜表面功能性涂層噴涂。
3)微型電子元器件
MEMS 傳感器、藍(lán)牙耳機(jī)微型導(dǎo)電電極導(dǎo)電液微量噴涂;FPC 柔性線路超薄絕緣保護(hù)涂層。
阻焊油墨、絲印前助焊劑均勻噴涂,覆蓋效率提升 40%;
PCBA 三防漆(丙烯酸、聚氨酯、硅酮)批量噴涂,BN200 陣列噴涂解決芯片、電容、電阻異形元器件邊緣漏涂,涂料損耗降低 25%,產(chǎn)線工時(shí)縮短 30%;
PCB 蝕刻、顯影、褪膜工序酸堿藥液噴淋,非金屬 PK-BN 搭配強(qiáng)腐蝕藥水。
2)鋰電 / 儲(chǔ)能電子
鋰電池隔膜陶瓷氧化鋁涂層噴涂,提升隔膜耐熱絕緣性能;極片表面潤濕、除塵霧化;PACK 模組絕緣防護(hù)涂層。
3)汽車電子
車載 PCB、傳感器、連接器防潮絕緣涂層,耐高低溫霧層均勻,適配車載嚴(yán)苛環(huán)境。
芯片封裝 Underfill 底部填充膠微量霧化噴涂;
5G 射頻天線、濾波器導(dǎo)電銀漿噴涂;
功率 IGBT 模塊絕緣導(dǎo)熱漿料涂布。
半導(dǎo)體濕法蝕刻、剝離、高純清洗(氫1氟酸、磷酸體系);
PCB 化學(xué)沉銅、微蝕前處理藥液噴淋;
光伏電子硅片酸堿清洗,避免金屬雜質(zhì)造成漏電不良。
濕法清洗:晶圓預(yù)清洗、CMP 拋光后清洗、TSV 深孔清洗、封裝前晶粒除塵;
薄膜涂覆:光刻膠、抗反射層、鈍化保護(hù)層微量噴涂;
封裝工序:底部填充膠、封裝樹脂霧化、焊盤助焊劑噴涂;
主推型號(hào):AM6/AM12、PK 非金屬系列。
| 對(duì)比維度 | 普通單流體 / 簡易二流體噴嘴 | ATOMAX 噴嘴 | 電子行業(yè)收益 |
|---|---|---|---|
| 霧化均勻度 | 粒徑分布寬,涂層厚薄差 2–3μm | CV<5%,厚度誤差 ±0.5μm | 芯片 / 面板不良率下降 15%–50% |
| 工件損傷風(fēng)險(xiǎn) | 高壓大液滴,劃傷晶圓、薄基板 | 低沖擊超細(xì)霧滴 | 高1端精密件報(bào)廢率大幅降低 |
| 抗堵塞能力 | 細(xì)孔易堵,漿料無法連續(xù)噴涂 | 直通大口徑流道,適配高固含漿料 | 產(chǎn)線停機(jī)維護(hù)頻次減少 70% |
| 耗材損耗 | 噴涂飛霧大,涂料浪費(fèi)嚴(yán)重 | 定向均勻霧化,飛霧少 | 三防漆、光刻膠耗材節(jié)約 20%–35% |
| 潔凈兼容性 | 金屬材質(zhì)析出離子污染晶圓 | 非金屬 PK 系列無金屬溶出 | 杜絕電路漏電、晶圓污點(diǎn)缺陷 |
| 能耗 | 壓縮空氣消耗大 | 低壓霧化,氣耗降低 15%–70% | 無塵車間空壓機(jī)運(yùn)行成本下降 |
痛點(diǎn) 1:先進(jìn)制程晶圓清洗易產(chǎn)生表面缺陷、銅層腐蝕
方案:AM 系列低沖擊霧化,精準(zhǔn)控制噴霧動(dòng)能,溫和去除納米污染物,邊緣過清洗問題消除,良率提升。
痛點(diǎn) 2:PCB 異形元器件三防漆漏涂、返工量大
方案:BN 廣角陣列噴嘴多角度立體噴霧,完整覆蓋引腳、芯片側(cè)邊,返工率降低。
痛點(diǎn) 3:高粘度銀漿、底部膠噴涂頻繁堵嘴
方案:CNP 超大直通碳化鎢流道,漿料無堆積,24 小時(shí)連續(xù)量產(chǎn)無需頻繁拆洗。
痛點(diǎn) 4:酸堿蝕刻工序金屬噴嘴析出雜質(zhì)污染線路
方案:PK 全塑無金屬流道,適配所有強(qiáng)腐蝕電子化學(xué)品,滿足潔凈制程管控。
痛點(diǎn) 5:鏡頭、顯示膜層噴涂出現(xiàn)針孔、霧斑
方案:5μm 窄分布超細(xì)霧化,無大液滴飛濺,超薄薄膜連續(xù)均勻。
微型化、先進(jìn)制程帶動(dòng) AM 系列需求增長
7nm 及以下芯片、mini/microLED、微型傳感設(shè)備對(duì)微量超薄噴涂需求爆發(fā),AM 超精密噴嘴逐步替代傳統(tǒng)旋涂、噴槍設(shè)備。
新能源電子拉動(dòng) BN、CNP 系列量產(chǎn)應(yīng)用
鋰電池、功率半導(dǎo)體、5G 射頻產(chǎn)線擴(kuò)產(chǎn),大流量涂層、高粘度漿料噴涂成為標(biāo)準(zhǔn)化工序。
高潔凈防腐非金屬噴嘴成為濕法工藝標(biāo)配
電子制造對(duì)金屬離子管控趨嚴(yán),PK 全塑噴嘴逐步替換不銹鋼噴嘴用于蝕刻、高純清洗工段。
一體化陣列霧化系統(tǒng)普及
ATOMAX 噴嘴搭配多軸運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、自動(dòng)化流水線,實(shí)現(xiàn)晶圓、PCB、面板全自動(dòng)連續(xù)噴涂,數(shù)字化調(diào)節(jié)氣液流量,工藝參數(shù)可追溯,適配智能制造產(chǎn)線升級(jí)。