客戶咨詢熱線：
15270896115
在半導體制造領域，微米級的內部缺陷足以讓整批晶圓報廢。一位工藝工程師曾望著檢測報告上的異常信號點，發(fā)出這樣的感嘆。
隨著半導體工藝節(jié)點不斷向5納米、3納米甚至更小尺寸邁進，芯片內部結構的復雜度和集成度呈指數(shù)級增長。當芯片結構從二維平面走向三維堆疊，當硅片厚度不斷減薄以提高性能，內部缺陷的檢測成為影響良率和可靠性的關鍵瓶頸。微裂紋、空洞、摻雜不均勻、晶體缺陷……這些隱藏在硅晶體內部的瑕疵，如同精密機械中的暗傷，常規(guī)光學檢測手段對此無能為力。
正是在這一行業(yè)痛點下，日本NPI公司推出的PIS-UHX-AIR近紅外光源，以其卓1越的穿透能力和精準的檢測性能，成為半導體內部缺陷檢測的“火眼金睛"。
近紅外光的獨特優(yōu)勢在于——硅材料在近紅外波段（特別是1100nm以上）具有較高的透過率，這使得光線能夠穿透硅晶片，直接探測內部結構。
PIS-UHX-AIR采用150W高功率鹵素燈設計，能夠穩(wěn)定輸出400nm-1700nm的寬光譜照射，峰值波長聚焦1000nm近紅外區(qū)域。這一波長范圍恰好適配半導體材料的光學特性——可穿透部分封裝層或晶圓表層，清晰識別內部裂紋、氣泡、雜質等隱藏缺陷，解決了傳統(tǒng)光源難以檢測深層問題的行業(yè)難題。
與普通光源不同，PIS-UHX-AIR實現(xiàn)了850-1650nm多波長精確控制，用戶可根據(jù)不同硅片厚度和檢測需求，選擇最合適的波長進行探測。產品提供三種峰值波長可選的燈型，配合濾光片簡易脫著機構，支持任意波長的定制化照射。特別是在1100nm附近的關鍵波段，光源輸出經過專門優(yōu)化，確保了對硅材料的穿透效果-1。
在半導體生產線的連續(xù)作業(yè)場景中，光源的穩(wěn)定性與耐用性直接影響檢測效率。PIS-UHX-AIR采用直流點燈方式，電壓安定度達到±0.1%（定格輸入電壓±10%時），確保長時間運行過程中照射強度均勻、波長穩(wěn)定，有效避免因光源波動導致的檢測誤差，為良率控制提供可靠保障。
集成強度反饋系統(tǒng)實時監(jiān)測并調整輸出光強，確保長時間連續(xù)工作下的穩(wěn)定性。脈沖照明功能則支持與檢測設備的高速同步，實現(xiàn)運動狀態(tài)下的清晰成像。
可調電壓設計（2-15V）允許工程師根據(jù)實際檢測需求，精確控制光強和穿透深度。無論是針對不同材質的晶圓檢測，還是多樣化封裝工藝的質量驗證，都能實現(xiàn)“精準匹配"，避免了單一波長光源的應用局限。
在1100nm處，硅片呈半透明狀態(tài)，配合PIS-UHX-AIR與InGaAs相機，可檢出<5μm的隱裂，實現(xiàn)0.5m/s的在線檢測速度。
光纖照明設計打破了傳統(tǒng)光源的安裝限制，可根據(jù)檢測設備的結構需求靈活布置出射光，無論是大型檢測儀器的集成應用，還是小型實驗裝置的搭配使用，都能輕松適配，極大降低了設備改造與安裝成本。
其緊湊的外形尺寸（124×165×224mm）與2.7kg的輕量化設計，也為檢測設備的集成與移動提供了便利，尤其適合空間有限的生產線或需要頻繁調整檢測工位的場景。
面對高功率光源必然產生的熱管理挑戰(zhàn)，強制風扇冷卻系統(tǒng)確保了設備在長時間高強度工作條件下保持穩(wěn)定的光學性能。內置低噪聲風扇，0-40℃環(huán)境溫度下保持燈殼表面<45℃，避免熱漂移導致的光譜偏移。運行時噪音極低（≤45 dB(A)），即使在精密實驗室或對環(huán)境噪音要求較高的潔凈車間中使用，也不會產生干擾。
在晶圓制造環(huán)節(jié)，PIS-UHX-AIR的近紅外照射能力可穿透晶圓表層，精準檢測出內部的微小裂紋、晶格缺陷及雜質分布，幫助工程師及時發(fā)現(xiàn)生產過程中的問題，避免不合格晶圓流入后續(xù)工序，從而降低制造成本、提升整體良率。
在一家晶圓代工廠的檢測線上，技術人員將其集成到自動光學檢測系統(tǒng)中，專門用于FinFET結構的3D芯片內部缺陷探測。通過精確選擇1300nm和1450nm的工作波長，檢測系統(tǒng)成功識別出了多批晶圓中的微米級內部空洞，這些缺陷在使用傳統(tǒng)檢測手段時全被遺漏。
在半導體封裝檢測中，PIS-UHX-AIR能夠清晰識別封裝層與芯片之間的貼合度、引線鍵合的完1整性，有效排查虛焊、脫焊等隱患。特別是能夠清晰成像硅通孔內的填充缺陷和界面分層問題，為異構集成提供了可靠的質量保障。
實戰(zhàn)數(shù)據(jù)表明，采用PIS-UHX-AIR后，檢測時間相比之前的方案縮短了約40%，同時將缺陷漏檢率降低了70%以上。
這一提升直接轉化為企業(yè)的競爭優(yōu)勢：
直接價值：高精度照射能力減少了檢測誤差，降低了不合格產品的返工率與報廢率，直接節(jié)約生產成本；穩(wěn)定的性能與長使用壽命，減少了光源更換頻率，降低了設備維護成本與停機時間，提升了生產效率。
間接價值：多場景適配能力與靈活的集成設計，幫助企業(yè)避免了因檢測設備升級而導致的大規(guī)模改造，延長了現(xiàn)有檢測設備的使用壽命。精準的檢測數(shù)據(jù)為企業(yè)優(yōu)化生產工藝、提升產品質量提供了可靠依據(jù)，助力企業(yè)在高中端半導體市場中占據(jù)優(yōu)勢地位。
對于國際化布局的半導體企業(yè)而言，PIS-UHX-AIR的寬電壓輸入特性（支持AC85V-264V） 極1具實用價值，可適配不同地區(qū)的電網標準，無需額外配備電壓轉換器，降低了跨國生產的設備適配成本。內置功率因數(shù)校正IC，功率因數(shù)達到0.95以上，符合高標準的諧波要求。
當硅片在檢測臺上緩緩移動，近紅外光穿透晶體，內部結構的每一處細節(jié)都在成像系統(tǒng)中清晰呈現(xiàn)。那些曾隱藏在視線之外的微裂紋、空洞和界面缺陷，如今無處遁形。
半導體制造正在進入一個“全透視"檢測時代，不再滿足于表面，而是追求從內到外的可靠。在這條追求極1致的道路上，日本NPI PIS-UHX-AIR近紅外光源，以其精準的照射性能、靈活的場景適配、穩(wěn)定的運行表現(xiàn)，成為照亮芯片內部世界的那束光，為半導體行業(yè)的高質量發(fā)展注入持續(xù)動力。
無論是滿足當前高精度、高效率的檢測需求，還是適配未來半導體工藝的升級迭代，PIS-UHX-AIR都將成為企業(yè)提升核心競爭力的重要助力。這，就是半導體內部缺陷檢測的“火眼金睛"。
